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机械剥离氧化铝基底二硒化钨

机械剥离氧化铝基底二硒化钨

简要描述:

机械剥离氧化铝基底二硒化钨先丰纳米推出机械剥离制备的二硒化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。

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更新时间:2019-07-09

产品名称

中文名称: 机械剥离氧化铝基底二硒化钨

英文名称:Mechanical exfoliation WSe2 on Al2O3

性质

形态:薄膜

参数

基底:氧化铝

基底尺寸:10 mmx10 mm

WSe2面积:>10 μm2

应用

先丰纳米推出机械剥离制备的二硒化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。

其他信息

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